핵심원천기술 해외특허출원 특별지원
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특허청(청장 김종갑)은 국가에서 특별히 지원할 필요성이 있는 핵심원천기술에 대해서는 기존의 해외출원비용지원과는 구분하여 집중적인 지원을 하기로 했다고 30일 밝혔다.


특히, 기술적 가치나 시장가치가 매우 커서 국가가 전략적으로 지원할 필요성이 있는 기술을 대상으로 특허청내에 설치될 심사위원회에서 핵심원천기술을 선정한다는 방침이다.


핵심원천기술로 선정되면, 신청시기 및 지원국가 수 등에 있어서 기존의 해외출원비용지원에 비해 훨씬 유리한 지원을 받을 수 있게 된다. 또, 핵심원천기술의 경우, 종전에 출원비용지원을 전·후반기 연 2회 신청을 받았던 데 비해 신청기간의 제한없이 수시로 신청할 수 있도록 해 출원인의 비용부담기간을 단축시켰다.


종전에 2개국 이상에 출원한 동일 특허의 경우, 1개국에 대해서만 지원 받을 수 있었으나 핵심원천기술은 출원국가 수에 제한을 받지 않고 지원 받을 수 있게 된다. 아울러, 종전에 국제특허조약(PCT) 방식에 의한 출원시 출원국가에서 출원절차를 밟은 후에 지원신청이 가능하나 핵심원천기술은 국내에서 PCT 출원을 한 경우에도 지원이 가능하도록 했다.


특허청 관계자는 "핵심원천기술에 대한 해외출원경비 지원여부는 특허청 기술성 평가를 토대로 한국발명진흥회의 해외출원비용지원 선정위원회에서 추천하고 특허청의 심사위원회 심사를 거쳐 최종 결정된다"고 말했다.



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  • 기사등록 2005-11-30 12:02:50
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